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        1. 蘇州辰杰真空鍍膜有限公司
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          加工裝飾品真空鍍膜

          加工裝飾品真空鍍膜

          • 所屬分類:加工裝飾品
          • 發布日期:2019-03-23
          • 產品概述
          • 性能特點
          • 技術參數

          蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0、1~0、2電子伏。蒸發源有三種類型。
          ①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質(圖1[蒸發鍍膜設備示意圖])電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;
          ②高頻感應加熱源:用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質;
          ③電子束加熱源:適用于蒸發溫度較高(不低于2000[618-1])的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發。
          蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。

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